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紫外光源曝光系统最核心的部件之一是紫外光源。常见光源分为:可见光：g线：436nm紫外光（UV），i线：365nm深紫外光（DUV）,KrF准分子激光：248nm,ArF准分子激光：193nm极紫外光（EUV），10~15nm对光源系统的要求a.有适当的波长。波长越短，可曝光的特征尺寸就越小；[波长越短，就表示光刻的刀锋越锋利，刻蚀来自对于精度控制要求越高。]b.有足够的能量。能量越大，曝光时间就越短；c.曝光能量必须均匀地分布在曝光区。[一般采用光的均匀度或者叫不均匀度光的平行度等概念来衡量光是否均匀分布]常用的紫外光光源是高压弧光灯（高压汞灯），高压360问答汞灯有许多尖锐的光谱线，经过滤光后使用其中的g线（436nm）或i线（365nm）。对于波长更短的深紫外光光源，可以使用准副相己给息到分子激光。例如KrF准分子激光（248nm）、ArF准分子激光（193nm）和F2准分子激光（157nm）等。曝光系统的功能主要有：平滑衍射效应、实现均匀甚章先照明、滤光和冷光处理、实现强眼黄值映影光照明和光强调节等。
